nokia10
“计算光刻主要应用于芯片的开发与制造环节,实际是通过大量的数学和物理模型的建立来帮助客户在芯片开发和制造时设计出一个模板——用专业的词来说叫‘光罩’(又叫‘掩模版’);光刻机是把这个光罩上面客户设计的图案投影到晶圆上面,然后晶圆通过光刻胶的显影后续的工序把它呈现出来。”沈波给出相关定义时说。
“我们的光刻机每小时能处理多达300余片晶圆,每一片晶圆可能在光刻机中曝光时间只有十几秒。这十几秒,机器要把所有的曝光完成。其中,在一片晶圆上,根据产品种类和设计的差异需要产生100束光左右,每一束光都会有区别,并且在实时调整。这个过程非常复杂、非常精细。”
光刻设备领先供应商阿斯麦(ASML)今年也将第五次参加进博会,公司将以“光刻未来,携手同行”为主题,亮相国家会展中心技术装备展区集成电路专区,
在沈波看来,芯片制造需要一千多道工序,每道工序都集中了全球在该领域最好的公司和人才,才能保证把事情做好;在历史发展进程中,半导体也一直是需要全球高度合作的产业,但近年来不光是ASML,整个行业发展都受到了很多地缘政治方面的影响。
“即便面对行业波动,中国大陆客户对我们的需求仍是将前两年订的货尽快交付,而其他客户的需求时间节点发生了变化。所以,最后大家看到的结果是中国大陆市场所占的份额相对出现上升。”沈波说道。
诺基亚10正式发布
沈波解释称:“过去很多年,我们每年是全球交付200台机器左右,到今年应能提升到300多台的产能,但缺口仍比较大。近年来,我们积极和供应商沟通,以期在配合和协作下,确保顺利地响应、满足2025年的产能爬升。如果各方面都配合得符合预期,我们会在2025年底或者2026年初具备500到600台DUV之间的全球年供应产能。”
而中国大陆的客户目前仍处于产能建设阶段,有些客户甚至刚起步,尤其在成熟制程这块需求非常旺盛,所以对行业波动相对不那么敏感。
展望行业趋势,沈波认为,当前存储芯片库存在进一步降低,同时价格出现些许回升;逻辑芯片厂设备的使用率慢慢地往回升,行业整体正触底回升,明后年则有望企稳;行业存在周期起伏,但长期上升态势未变。
ASML“铁三角”全景光刻解决方案中的另一环是量测,其是曝光后晶圆成像检查和反馈的环节,帮助进一步优化模型。量测分还为光学和电子束两种,其中,ASML电子束量测在*设有开发中心,是ASML电子束量测的全球四大开发中心之一,专门从事电子束系统关键组件的开发。
“在我们看来,先进制程芯片从数量上讲是相对较小的,绝大多数是成熟制程芯片。我觉得,对于中国来讲,这么大终端市场需求推动下,把成熟制程芯片做到非常具有竞争力的水平,对半导体行业来讲是最高效的,可以达到一个事半功倍的效果,有助于提高投入产出比。”沈波说道。
oald10
这一千多道工序,每一道工序的误差、偏差都需要控制得非常精确。任何一道工序有问题,芯片最后出来就可能不是一个合格的产品,这对芯片厂而言是巨大的成本。
沈波还特别指出,“现在网上有各种各样的关于我们的消息,说我们不卖机器到中国,这种很吸引眼球的传闻。然而,实际上我们从1988年首台机器运到中国,
在三季度财报会议上,ASMLCEOPeterWennink进一步解释称,“1980Di原则上将受出口管制限制,但仅当用于先进半导体制造时,仅适用于少数应用。这意味着1980Di仅对少数晶圆厂禁止出口,但可向绝大多数应用于次关键和成熟制程的中国大陆客户直接出口,无需许可。”
“预计到2025年,行业回暖将使现有产能开满并需要新产能,同时,全球各地,包括在中国、美国、欧洲、日韩等会有新的芯片厂在2025年投入运行,两个因素叠加,届时会带来一波半导体设备的需求。”沈波指出。
添加新评论